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时间:2009-12-23 13:50:42 访问次数:2807
专利简介: 本发明公开了一种气体分布器以及使用该气体分布器的氧氯化设备,气体分布器包括气体入口管、至少两级带有喷嘴的气体分布管,其特征在于:气体分布管带有喷嘴的一端伸入所体入口管中,伸入气体入口管中的长度为气体分布管总长度的5%~95%。本发明气体分布器适用于精馏塔、流化床等设备,尤其是氧氯化反应器,可以实现抗腐蚀的效果,进而降低设备的维修费用。